ASWL光刻机：微纳加工领域的领先选择 ASWL光刻机是一种微纳加工设备，主要应用于半导体、光电子等领域。该设备采用光刻技术，能够实现微米级别的加工，具有高精度、高效率、高稳定性等特点，成为微纳加工领域的领先选择。 ASWL光刻机的工作原理 ASWL光刻机主要通过光刻技术实现微米级别的加工。其工作原理是利用光刻胶在光照下发生化学反应，形成图案，再通过蚀刻等工艺将图案转移到基片上。该技术具有高精度、高分辨率等特点，能够实现微米级别的加工。 ASWL光刻机的特点 ASWL光刻机具有以下特点： 1.